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钼靶材特性都有哪些?钼靶材的纯度
时间:2020-06-11 10:36:49浏览次数:
   因为钼具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗以及较好的耐腐蚀性和环保性等特点,所以钼靶材被广泛应用于电子行业,例如平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料,下面就由四丰小编为您介绍一下钼靶材特性。
  
  1、高纯度
钼靶材特性都有哪些?钼靶材的纯度(图1)
  钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95%。但随着LCD行业玻璃基板尺寸的不断提高,要求配线的长度延长、线宽变细,为了保证薄膜的均匀性以及布线的质量,对钼溅射靶材的纯度的要求也相应提高。因此,根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境,钼溅射靶材的纯度要求在99.99%-99.999%甚至更高。
  
  2、高致密度  
  溅射镀膜的过程中,致密度较小的溅射靶受轰击时,由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放,造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅,或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅,这些微粒的出现会降低薄膜品质。为了减少靶材固体中的气孔,提高薄膜性能,一般要求溅射靶材具有较高的致密度。对钼溅射靶材而言,其相对密度应该在98%以上。
  
  3、晶粒尺寸  
  通常钼溅射靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。试验研究表明,细小尺寸晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒快,而晶粒尺寸相差较小的靶,淀积薄膜的厚度分布也较均匀。
  
  4、结晶方向  
  由于溅射时靶材原子容易沿原子六方紧密排列方向择优溅射出来,因此,为达到溅射速率,常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。因此,获得-一定结晶取向的靶材结构对薄膜的溅射过程至关重要。
  
  5、导热导电  
  一般钼溅射靶材溅射前必须与无氧铜(或铝等其他材料)底盘连接在一起,使溅射过程中靶材与底盘的导热导电状况良好。绑定后必须经过超声波检验,保证两者的不结合区域小于2% ,这样才能满足大功率溅射要求而不致脱落。
  
  6、四丰钼靶材性能  
  纯度:纯钼≥99.95%,高温钼≥99%(添加稀土元素)
  
  密度:≥10.2g/cm3
  
  熔点:2610℃
  
  规格:圆形靶,板靶,旋转靶
  
  适用环境:真空环境或惰性气体保护环境,纯钼较高耐高温1200度,钼合金较高耐高温1700度。